硬罩幕组成物和使用所述硬罩幕组成物形成图案的方法;HARDMASK COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE HARDMASK COMPOSITION
摘要
一种硬罩幕组成物和一种使用所述硬罩幕组成物形成图案的方法。硬罩幕组成物包含聚合物和溶剂，所述聚合物包含由以下化学式1表示的部分。;[化学式1]*-A-B-*;在所述化学式1中，A和B与具体实施方式中所定义的相同。;[Chemical Formula 1] *-A-B-* ;In the Chemical Formula 1, A and B are the same as defined in the detailed description.
申请公布号
TW201544540
申请公布日期
2015.12.01
申请号
TW104112155
申请日期
2015.04.16
申请人
三星ＳＤＩ股份有限公司 SAMSUNG SDI CO., LTD.
发明人
南沇希 NAM, YOUN-HEE;金美英 KIM, MI-YOUNG;朴惟廷 PARK, YOU-JUNG;金润俊 KIM, YUN-JUN;金惠廷 KIM, HEA-JUNG;文俊怜 MOON, JOON-YOUNG;宋炫知 SONG, HYUN-JI;李忠宪 LEE, CHUNG-HEON;崔有廷 CHOI, YOO-JEONG
