| 摘要 |
<p>본 발명은 고 효율의 반도체 제조용 식각액 조성물에 관한 것으로, 본 발명에 의한 우레아 플루오라이드(Urea fluoride) 식각액 조성물은 불화수소(Hydrogen Fluoride, HF) 용액과 고체 상태의 우레아(Urea, HNCONH)(분자량 60.06)를 몰비로 4:1~1:4의 비율로 혼합하여 구성하는 것을 특징으로 한다. 반도체 제조 공정에 쓰이는 불화수소와 암모늄 바이플루오라이드를 본 발명의 우레아 플루오라이드(Urea Fluoride)로 대체하면, 불화수소의 흄 발생 현상이 없어져서 작업 환경이 크게 개선되고 설비의 부식 현상이 현저히 낮아지며, 불화수소 특유의 자극적인 냄새가 사라져서 작업성 및 안전성이 크게 확보되는 장점이 있고, 우레아 플루오라이드의 효율적이고 빠른 반응성 및 식각성으로 인해 반도체 제조공정의 생산성을 높일 수 있는 효과가 있으며, 각 반도체 제조 공정에 적합한 식각성 및 높은 식각 선택성으로 인해 고 집적도의 반도체 소자의 제조가 가능한 장점이 있고, 고 효율의 식각성으로 인해 제조 단가를 낮출 수 있어 경제성이 있는 매우 유용한 발명이다.</p> |
