发明名称 elemento semicondutor de nitreto e método para a fabricação do mesmo
摘要 elemento semicondutor de nitreto e método para a fabricação do mesmo. a presente invenção refere-se a um elemento semicondutor de nitreto que inclui um substrato de safira, que inclui: uma superfície principal que se estende em um plano em c do substrato de safira, e uma pluralidade de projeções dispostas na superfície principal, a pluralidade de projeções que inclui pelo menos uma projeção que tem uma forma alongada em uma vista plana; e uma camada semicondutora de nitreto disposta sobre a superfície principal do substrato de safira. pelo menos uma projeção tem uma borda externa que se estende em uma direção longitudinal da forma alongada, a borda externa que se estende em uma direção orientada a um ângulo na faixa de -10° a +10° com relação a um plano a do substrato de safira na vista plana.
申请公布号 BR102015012604(A2) 申请公布日期 2015.12.01
申请号 BR20151012604 申请日期 2015.05.29
申请人 NICHIA CORPORATION 发明人 MASAHIKO SANO;NAOKI AZUMA;TOMOHIRO SHIMOOKA
分类号 H01L21/205;H01L33/18;H01L33/32 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
地址