可控制溶剂挥发速率的旋转涂布装置

摘要

一种可控制溶剂挥发速率的旋转涂布装置，包含：一壳体、一承载座、一盖体单元及一旋转马达。该承载座可旋转地设置于该壳体内，并供一基板放置于该承载座上。该盖体单元包括一可位移地盖合该壳体的外盖，及一可沿一上下方向位移地离开该外盖，并罩覆于该基板上方的内盖。藉此，可以依据需要形成在基板上的膜的厚薄程度，来调整该内盖的上下位移，用以调整基板上方的空间，进而控制该溶剂的挥发速度。不论厚膜或是薄膜均可均匀形成在基板上。