矽晶圆之制造方法及矽晶圆

摘要

提供使得表面雾度降低到20ppb以下的矽晶圆之制造方法及矽晶圆。矽晶圆制造方法，其包括修整研磨程序、及清洗完成上述修整研磨程序的晶圆之清洗程序，上述清洗程序中，至少执行用含有氟化氢的清洗液进行清洗；分别控制上述清洗程序中的清洗条件及修整研磨程序中的研磨条件，以使得刚完成上述清洗程序的晶圆表面之氢端率为87%以上。又，经修整研磨之矽晶圆，该晶圆表面雾度为20ppb以下。