发明名称 曝光装置
摘要
申请公布号 TWI510865 申请公布日期 2015.12.01
申请号 TW099144867 申请日期 2010.12.21
申请人 V科技股份有限公司 发明人 水村通伸
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 黄庆源 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;陈彦希 台北市大安区敦化南路1段245号8楼
主权项 一种曝光装置,于光的行进方向自上游侧依序具备有:光束点生成机构,系接收光源光而生成以既定间隔相互错开至少排列2列之复数光束点;光扫描机构,系使得该复数光束点于该等排列方向分别于既定范围内进行往返扫描;图案产生器,系藉由将复数开关元件加以开启、关闭驱动,来对该光源光进行光调变而生成既定之明暗图案,该复数开关元件系由角柱状光电结晶材料所构成,以中心轴分别对齐于该复数光束点之往返扫描中心的方式配置,在与该中心轴平行之对向面设置有一对电极;以及投影透镜,系将该明暗图案投影于被曝光体上;且该各开关元件在该光束点之扫描方向之宽度系较该光束点在同方向之宽度为大。
地址 日本