场效电晶体装置及形成电性接触之方法;FIELD EFFECT TRANSISTOR AND METHODS FOR FORMING ELECTRICAL CONTACTS

摘要

提供一种形成电性接触的方法。形成第一和第二场效电晶体于半导体基板上。在形成于基板上的介电层中蚀刻出开口，其中这些开口延伸至上述场效电晶体的源极与汲极区域。形成硬罩幕于场效电晶体的源极与汲极区域之上。移除硬罩幕之第一部份，此第一部份系形成于第一场效电晶体的源极与汲极区域之上。形成第一矽化物层于第一场效电晶体的源极与汲极区域之上。移除硬罩幕之第二部份，此第二部份系形成于第二场效电晶体的源极与汲极区域之上。形成第二矽化物层于第二场效电晶体的源极与汲极区域之上。沉积金属层于上述开口中，以填充开口。