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发明名称
腔内被处理对象的接触结构、静电吸盘及其制造方法;CONTACT GEOMETRY FOR PROCESSING OBJECT, ELECTROSTATIC CHUCK AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
摘要
本发明提供一种腔内被处理对象的接触结构。其包括:为格子状的凹槽及环绕该凹槽的突出结构排列。该接触结构利用掩模而容易快速地形成。细小的突出结构排列即使在长时间使用之后,也能保持比较均匀的接触比例,由此抑制发生斑点等问题。
申请公布号
TW201545267
申请公布日期
2015.12.01
申请号
TW104102171
申请日期
2015.01.23
申请人
ICD股份有限公司 ICD CO. (INNOVATION FOR CREATIVE DEVICES CO., LTD.)
发明人
李承虎 LEE, SEUNGHO;李淳宰 LEE, SOONJAE;李明浩 LEE, MYUNGHO;徐光善 SEO, KWANGSUN;金映浩 KIM, YOUNGHO;崔英训 CHOI, YOUNGHOON;黄锡载 HWANG, SEOKJAE
分类号
H01L21/683(2006.01)
主分类号
H01L21/683(2006.01)
代理机构
代理人
叶璟宗郑婷文詹富闵
主权项
地址
南韩 KR
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