| 发明名称 |
用以决定前侧图案化用调整之背侧基板纹理图的产生系统及方法;SYSTEMS AND METHODS FOR GENERATING BACKSIDE SUBSTRATE TEXTURE MAPS FOR DETERMINING ADJUSTMENTS FOR FRONT SIDE PATTERNING |
| 摘要 |
在此揭露之技术为用以产生基板背侧之纹理图的方法及系统。纹理图可用以判定用于后续之基板前侧处理的制程调整(例如焦深)。 |
| 申请公布号 |
TW201545203 |
申请公布日期 |
2015.12.01 |
| 申请号 |
TW104102481 |
申请日期 |
2015.01.26 |
| 申请人 |
东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
德维利耶 安东Ｊ DEVILLIERS, ANTON J.;马修斯 塔德Ａ MATHEWS, TODD A.;罗宾森 罗德尼 李 ROBISON, RODNEY LEE |
| 分类号 |
H01L21/027(2006.01);H01L21/67(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
周良谋周良吉 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 JP |
