摘要 |
(과제) 고온 고압의 대형 장치 및 내열 내압의 성형형을 필요로 하지 않고, 간편하게 또한 고속, 고정밀도로 후물의 성형물을 얻는 것. (해결 수단) 고분자 화합물 (A) 와, 반응성 희석제 (B) 와, 광중합 개시제 (C) 를 함유하여 이루어지는 성형용 광경화성 조성물로서, 상기 고분자 화합물 (A) 는 구성 모노머 단위로서 하기 식 (1) 의 화합물로 이루어지는 구성 단위 및/또는 하기 식 (2) 의 화합물로 이루어지는 구성 단위를 함유하고, 상기 식 (1) 의 화합물 및/또는 상기 식 (2) 의 화합물의 합계 중량이 상기 고분자 화합물 (A) 의 전체 중량의 60 중량% 이상이고, 상기 반응성 희석제 (B) 는 상기 식 (1) 의 화합물 및/또는 상기 식 (2) 의 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 성형용 광경화성 조성물. |