| 摘要 |
본 발명은 용사 재료 토출 구멍을 갖는 제 1 전극(3)과, 제 1 외투(4)와, 제 1 플라즈마 가스 도입구(5)를 갖는 제 1 절연체(27)를 구비하는 주토치(1)와, 제 2 전극(10)과, 제 2 외투(11)와, 제 2 플라즈마 가스 도입구(12)를 갖는 제 2 절연체(28)를 구비하는 부토치(2)를 구비하고, 제 1 전극(3)과 제 2 전극(10)은 제 1 전극(3)의 중심축 상에 형성되는 플라즈마(18)의 축 중심에 용사 재료 토출구멍으로부터 공급된 용사 재료(20)를 용융하는 플라즈마 용사 장치(100a)에 있어서, 제 1 외투(4)에 있어서의 개구부(4a)의 입구측 및/또는 상기 개구부(4a)와 제 1 절연체(27) 사이에 설치되어진 테이퍼부(4b)에 가스를 도입하는 가스 도입부(4c)를 설치하는 것이다. 해당 구성에 의해, 개구부(4a)의 내벽에 용사 재료(20)가 부착되는 것을 억제할 수 있다. |
