发明名称 SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SEMICONDUCTOR SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 <p>반도체-절연체 계면의 계면 준위가 저감된 반도체 기판과, 그 제조 방법 및 반도체 장치를 제공한다. 비소를 함유하는 3-5족 화합물의 반도체층과, 산화물, 질화물 또는 산질화물의 절연층을 포함하고, 상기 반도체층과 상기 절연층 사이에 비소의 산화물이 검출되지 않는 반도체 기판이 제공된다. 이 제1 형태에 있어서 반도체 기판은 상기 반도체층과 상기 절연층 사이에 존재하는 원소를 대상으로 하는 X선 광전자 분광법에 의한 광전자 강도의 분광 관찰에서, 비소에 기인하는 원소 피크의 고결합 에너지측에, 산화된 비소에 기인하는 산화물 피크가 검출되지 않는 것일 수 있다.</p>
申请公布号 KR101572705(B1) 申请公布日期 2015.11.27
申请号 KR20107019357 申请日期 2009.03.26
申请人 고쿠리츠다이가쿠호우진 도쿄다이가쿠;스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 发明人 스기야마 마사카즈;시모가키 유키히로;하타 마사히코;이치카와 오사무
分类号 H01L21/336;H01L29/78 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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