電気光学デバイス積層体

摘要

電気光学デバイス積層体（１０）の製造方法を提供する。本製造方法は、酸性化合物（１２ｍ）を含む電荷注入層（１２）に接触する電気光学層（１３）を含む多層構造体を提供するステップと；前記電気光学層（１３）上に、カチオン架橋性レジスト材（１４ｍ）を含むレジスト層（１４）を堆積させるステップと；前記電荷注入層（１２）由来のプロトン（１２ｐ）により誘発される架橋反応により、レジスト材（１４ｍ）を電気光学層（１３）内の隣接する欠陥部（１２’，１３’）と反応させて、前記欠陥部（１２’，１３’）を、架橋レジスト材（１４ｃ）を含むパッチ（１４ｐ）により被覆するステップと；前記レジスト材（１４ｍ）の未架橋部分を除去するステップを含み、前記パッチ（１４ｐ）が残留して、前記電荷注入層（１２）と、前記電気光学層（１３）及び前記パッチ（１４ｐ）上に続いて堆積される層との間に電気的絶縁を提供する。【選択図】図１