| 摘要 |
<p>Es ist ein Verfahren zum Aufbereiten von Rückständen aus der mechanischen Bearbeitung von Siiiziumprodukten für eine nachfolgende Silan Synthese beschrieben, wobei die Rückstände wenigstens Silizium, Kohlenstoff enthaltende Partikel und metallische Bestandteile aufweisen. Bei dem Verfahren werden die Rückstände mit einer Ätzflüssigkeit kontaktiert und die metallischen Bestandteile nicht aber Silizium oder die Kohlenstoff enthaltenden Partikel aufgelöst und dann werden die Ätzflüssigkeit mit darin gelösten Metallen von ungelösten Partikeln aus wenigstens Silizium und Kohlenstoff enthaltenden Partikel wenigstens teilweise getrennt. Die Silizium Partikel werden wenigstens teilweise von den Kohlenstoff enthaltenden Partikeln getrennt und es erfolgt ein wenigstens teilweises Entfernen von Oxiden von der Oberfläche der Silizium Partikel. Anschließend kommt es zu einem Schmelzen der Siliziumpartikel, und einem Einleiten des geschmolzenen Siliziums in eine Prozesskammer, wobei das geschmolzene Silizium beim Einleiten in die Prozesskammer über eine Gasströmung zerstäubt wird, und anschließend zum Boden der Prozesskammer oder eines daran befestigten Auffangbehälters fällt, wobei die Prozessbedingungen in der Prozesskammer, insbesondere die Gasströmung zum Zerstäuben des Siliziums so eingestellt werden, dass sich das zerstäubte Silizium während des freien Falls wenigstens teilweise verfestigt. Ferner sind ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Entfernen von Oxiden von der Oberfläche von Siliziumpartikeln, beschrieben. Bei dem Verfahren werden die Siliziumpartikel im Unterdruck auf eine Temperatur unterhalb des Schmelzpunktes der Siliziumpartikel auf wenigstens 800°C erwärmt, wobei der Unterdruck und die Temperatur so abgestimmt sind, dass SiO von den Siliziumpartikeln sublimiert und abgeleitet werden kann.</p> |
