| 摘要 |
본 발명의 실시예는 열처리 동안 가스 분포를 향상시키기 위한 장치 및 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예는 기판을 처리하기 위한 장치를 제공하고, 이 장치는 처리 볼륨을 형성하는 챔버 몸체; 처리 볼륨에 배치되며 기판을 지지하고 회전시키도록 구성된 기판 지지대; 처리 볼륨으로 제 1 가스 유동을 제공하도록 구성되며 챔버 몸체의 입구에 커플링된 가스 입구 어셈블리; 및 챔버 몸체의 출구에 커플링된 배출 어셈블리를 포함하고, 가스 입구 어셈블리 및 배출 어셈블리는 챔버 몸체의 대향측면 상에 배치되며, 배출 어셈블리는 처리 볼륨을 확장하도록 구성된 배출 볼륨을 형성한다. |
