カスタマイズ可能な流れの注入を伴うエピタキシャルチャンバ

摘要

処理チャンバの中で基板を処理するための装置が、本明細書で提供される。幾つかの実施形態において、処理チャンバの中で使用するためのガス注入装置は、ある一つの平面状表面に対しある角度で第一のプロセスガスの角度の付いた注入を供給する噴出口の第一の組と、噴出口の第一の組に近接し、実質的に平面状表面に沿って第二のプロセスガスの加圧された層流を供給する噴出口の第二の組を含み、平面状表面は、噴出口の第二の組に対し垂直に広がる。【選択図】図１