SUPPORT ARRANGEMENT FOR AN EVAPORATOR SOURCE

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft eine selbsttragende Trägeranordnung für eine Verdampferquelle (10) zur Oberflächenbehandlung zumindest eines Substrates, wobei die Trägeranordnung einen Boden (82) und eine mit dem Boden (82) verbundene Seitenwandstruktur (84) aufweist, wobei der Boden (82) und die Seitenwandstruktur (84) eine Aufnahme (85) bilden, in welche die Verdampferquelle (10) einsetzbar ist und wobei der Boden (82) und die Seitenwandstruktur (84) aus einem Graphitfaserwerkstoff gebildet sind. Des Weiteren betrifft die Erfindung eine Verdampferanordnung mit einer solchen Trägeranordnung und einer darin angeordneten Verdampferquelle (10).