| 发明名称 |
半導体ウェハを処理するリアクタ、そのリアクタのカバー部材、および、そのリアクタを作動する方法 |
| 摘要 |
<p>A thermal reactor having a wafer chamber for containing at least one semiconductor wafer during processing. The thermal reactor contains a quartz window having an inward bow defining a concave outside surface.</p> |
| 申请公布号 |
JP5823234(B2) |
申请公布日期 |
2015.11.25 |
| 申请号 |
JP20110214872 |
申请日期 |
2011.09.29 |
| 申请人 |
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发明人 |
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| 分类号 |
H01L21/205;C23C16/44;C23C16/46;C23C16/48;C30B25/08 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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