用于涂覆基底的设备和方法

摘要

本发明涉及一种用于在基底（3）的表面（4）上由一种或多种液态前体产生液体膜以形成涂层的设备（1）和方法，所述设备布置成在涂覆室（21）中将浮质流（13）引到基底（3）的表面（4）。根据本发明，所述设备包括均化喷嘴（17），用于使浮质流（13）在进入到涂覆室（21）之前沿着基底（3）的表面（4）的方向基本均化。

主权项

一种用于在基底(3)的表面(4)上生产由一种或多种液态前体所形成的液体膜(27)以形成涂层的设备，所述设备布置成将浮质流引到所述基底(3)的所述表面(4)上，所述设备包括：一个或多个雾化器(9)，用于雾化所述一种或多种液态前体以形成浮质流；雾化室(7)，利用所述一个或多个雾化器(9)将所述液态前体雾化而进入所述雾化室中，涂覆室(21)，浮质流在所述涂覆室中被沉积在所述基底(3)的所述表面(4)上，其特征在于，所述设备还包括均化喷嘴(17)，所述均化喷嘴(17)布置在雾化室(7)和涂覆室(21)之间，设计成用于使浮质流(13)在进入所述涂覆室(21)之前基本沿着所述基底(3)的所述表面(4)的方向均化。