化学气相沉积室的清洁方法

摘要

本发明公开了一种化学气相沉积室的清洁方法包括通入NF₃对腔体进行清洗；通入N₂对腔体进行清洗；通入O₂对腔体进行清洗；通入C₂H₂和惰性气体的混合气体，在腔体内加热垫表面沉积一层非晶碳膜。本发明提供的化学气相沉积室的清洁方法通过将加热垫表面的Al_xF_yO_z上沉积一层非晶碳膜，从而将该金属污染物包裹起来，解决晶圆进入机台后，加热垫上的金属颗粒粘附在晶圆背面，造成晶圆背面金属污染物超标的问题，同时，也解决晶圆进入机台后沉淀薄膜时，晶圆表面微小颗粒数量较多的问题。

主权项

一种化学气相沉积室的清洁方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S01，通入含有NF₃的清洗气体并在等离子体中电离出氟离子对化学气相沉积室的腔体进行清洗；步骤S02，通入含有N₂的清洗气体，通过高频等离子体源对化学气相沉积室的腔体进行清洗；步骤S03，通入含有O₂的清洗气体，通过高频等离子体源对化学气相沉积室的腔体进行清洗；步骤S04，通入由C₂H₂和惰性气体组成的混合气体，在高频电源作用下电离，在腔体内加热垫表面沉积一层非晶碳膜。