中心波长渐变的带通滤光片制备方法

摘要

本发明公开了一种中心波长渐变的带通滤光片制备方法，根据带通滤光片中心波长的位置与间隔层光学厚度成正比的关系在真空室中采用等离子体增强化学气相沉积完成第一高反射膜堆和间隔层的制备，然后在真空室中采用离子束刻蚀和掩模板组合技术对不同位置处的间隔层进行不同的厚度刻蚀，使对应不同中心波长的间隔层形成阶梯状台阶，最后再采用等离子体增强化学气相沉积完成第二高反射膜堆的制备，即获得中心波长渐变的带通滤光片。本发明所提供的中心波长渐变滤光片的制备方法只需经过一次第一高反射膜1和间隔层的镀制、离子束与掩模组合刻蚀、第二高反射膜堆的镀制就可完成n个中心波长渐变滤光片的制备，方法简单、效率高。

主权项

一种中心波长渐变的带通滤光片制备方法，其特征在于，该方法为：根据带通滤光片中心波长的位置与间隔层光学厚度成正比的关系在真空室中采用等离子体增强化学气相沉积完成第一高反射膜堆和间隔层的制备，然后在真空室中采用离子束刻蚀和掩模板组合技术对不同位置处的间隔层进行不同的厚度刻蚀，使对应不同中心波长的间隔层形成阶梯状台阶，最后再采用等离子体增强化学气相沉积完成第二高反射膜堆的制备，即获得中心波长渐变的带通滤光片。