CVD腔室的流体控制特征结构

摘要

本发明涉及一种CVD腔室的流体控制特征结构。本发明提供用于气体散布组件的设备与方法。在一方面中，提供一种气体散布组件，其包含：环形本体，其包含：环形圈，其具有内环形壁、外壁、上表面与底表面；上凹部，其形成到该上表面内；及座部，其形成到该内环形壁内；上板，其设置在该上凹部中且包含：盘形本体，其具有多个形成为从其中通过的第一穿孔；及底板，其设置在该座部上且包含：盘形本体，其具有多个形成为从其中通过的第二穿孔，这些第二穿孔和这些第一穿孔对准；及多个第三穿孔，其形成在这些第二穿孔之间且通过该底板，该底板密封地连接到该上板以将该多个第一、第二穿孔与该多个第三穿孔流体地隔离。

主权项

一种气体散布组件，包含：上歧管，其包含：多个第一穿孔，其形成为同心地绕着所述上歧管的中心部而设置的多个第一径向列；及多个第二穿孔，其同心地绕着所述多个第一穿孔而设置且形成为多个第二径向列；中心歧管，其连接到所述上歧管且包含：第一开口组，其同心地绕着所述中心歧管的中心部而设置；及第二开口组，其同心地绕着所述第一开口组而设置；及底歧管，其连接到所述中心歧管且包含：第三开口组，其同心地绕着所述底歧管的中心部而设置；第四开口组，其同心地绕着所述第三开口组而设置；多个第一气体信道，其设置在所述底歧管的上侧的这些第四开口的各者之间；及信道网络，其同心地绕着所述第四开口组而设置且流体地连接到这些第一气体信道的一或多个。