| 发明名称 | 一种晶圆版图的CDSEM测量方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种晶圆版图的CDSEM测量方法，包括：步骤(a)选择测量图案，并检查所述测量图案是否已经用作定位图案；步骤(b)选择所述测量图案的定位图案，并检测所述定位图案是否为所有测量图案中的一个，以防止所述测量图案作为另一测量图案的定位图案在CDSEM测量中被电子放射多次。在本发明中通过两个步骤对测量图案进行检查，所述两个步骤分别为检查所述版图中测量图案是否已经用作定位图案，同时检测所述定位图案是否已经作为测量图案，以防止测量图案作为另一测量图案的定位图案，在CDSEM测量中被电子放射多次，以确保所述测量图案测量的准确性。 | ||
| 申请公布号 | CN105097585A | 申请公布日期 | 2015.11.25 |
| 申请号 | CN201410216745.1 | 申请日期 | 2014.05.21 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 王辉;王良 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/66(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人 | 高伟;冯永贞 |
| 主权项 | 一种晶圆版图的CDSEM测量方法，包括：步骤(a)选择测量图案，并检查所述测量图案是否已经用作定位图案；步骤(b)选择所述测量图案的定位图案，并检测所述定位图案是否为所有测量图案中的一个，以防止所述测量图案作为另一测量图案的定位图案在CDSEM测量中被电子放射多次。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||