发明名称 具有图案的基板的制造方法以及氢氟酸蚀刻用树脂组合物
摘要 本发明涉及一种具有利用蚀刻形成的图案的基板的制造方法,其特征在于,其包括:将包含作为(A)成分的使选自聚丁二烯多元醇、氢化聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇以及氢化聚异戊二烯多元醇的多元醇(a1)与交联剂(a2)反应而得到的树脂的组合物涂布到基板上形成抗蚀膜的工序、和对形成该抗蚀膜的基板进行蚀刻加工而图案化的工序。
申请公布号 CN105103050A 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201480018709.2 申请日期 2014.01.28
申请人 日产化学工业株式会社 发明人 佐藤哲夫
分类号 G03F7/035(2006.01)I;C08F290/06(2006.01)I;C08G18/69(2006.01)I;C08G63/40(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I;G03F7/032(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I 主分类号 G03F7/035(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种具有利用蚀刻形成的图案的基板的制造方法,其特征在于,其包括:将包含作为(A)成分的树脂的组合物涂布到基板上形成抗蚀膜的工序;和、对形成有该抗蚀膜的基板进行蚀刻加工而图案化的工序,所述树脂是由选自聚丁二烯多元醇、氢化聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇以及氢化聚异戊二烯多元醇中的多元醇(a1)与交联剂(a2)反应得到的。
地址 日本东京都