发明名称 |
具有图案的基板的制造方法以及氢氟酸蚀刻用树脂组合物 |
摘要 |
本发明涉及一种具有利用蚀刻形成的图案的基板的制造方法,其特征在于,其包括:将包含作为(A)成分的使选自聚丁二烯多元醇、氢化聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇以及氢化聚异戊二烯多元醇的多元醇(a1)与交联剂(a2)反应而得到的树脂的组合物涂布到基板上形成抗蚀膜的工序、和对形成该抗蚀膜的基板进行蚀刻加工而图案化的工序。 |
申请公布号 |
CN105103050A |
申请公布日期 |
2015.11.25 |
申请号 |
CN201480018709.2 |
申请日期 |
2014.01.28 |
申请人 |
日产化学工业株式会社 |
发明人 |
佐藤哲夫 |
分类号 |
G03F7/035(2006.01)I;C08F290/06(2006.01)I;C08G18/69(2006.01)I;C08G63/40(2006.01)I;G03F7/027(2006.01)I;G03F7/032(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/035(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;李茂家 |
主权项 |
一种具有利用蚀刻形成的图案的基板的制造方法,其特征在于,其包括:将包含作为(A)成分的树脂的组合物涂布到基板上形成抗蚀膜的工序;和、对形成有该抗蚀膜的基板进行蚀刻加工而图案化的工序,所述树脂是由选自聚丁二烯多元醇、氢化聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇以及氢化聚异戊二烯多元醇中的多元醇(a1)与交联剂(a2)反应得到的。 |
地址 |
日本东京都 |