一种单桢干涉条纹图测量光学表面的方法与装置

摘要

本发明涉及一种由单桢干涉条纹图测量光学表面的方法和装置，属于光电技术检测领域。本发明的特征在于将光学表面面形的泽尼克多项式系数作为未知参数，同时将干涉装置的特征信息如光强分布、对比度等参数化，并根据干涉原理建立干涉条纹图数学模型。然后通过数学优化计算所有的未知参数，使计算得到的干涉条纹图与实际干涉条纹图最为接近时的参数即为干涉装置系统参数，特别是计算出的泽尼克多项式系数即为光学表面面形分布。本发明不需要配置现有移相干涉仪必须的移相机构，大大节省了装置成本。同时，相对于其它单桢条纹面形检测算法，不需要密集的条纹，避免了被测光和参考光由于非共光路导致的测量误差。

主权项

一种单桢干涉条纹图测量光学表面的装置，其特征在于：包括激光器(1)、扩束系统(2)、第一分光棱镜(3)、参考镜(4)、被测镜(6)、第二分光棱镜(7)、第一成像透镜(8)、第二成像透镜(9)、第一相机(10)和第二相机(11)；激光器(1)发出细光束，经过扩束系统(2)后变成平行光束，平行光束通过第一分光棱镜(3)后通过参考镜(4)的一部分光在参考镜(4)的反射面(5)被反射回第一分光棱镜(3)，另一部分光在被测镜(6)反射回第一分光棱镜(3)，这两部分光被第一分光棱镜(3)反射到第二分光棱镜(7)，一部分光通过第二分光棱镜(7)后通过第一成像镜头(8)在第一相机(10)上形成干涉条纹，另一部分被第二分光棱镜(7)反射到第二成像镜头(9)在第二相机(11)上形成点像。