发明名称 基底夹持装置、抛光装置及抛光方法
摘要 一种基底夹持装置防止基底滑出并使得基底被稳定地抛光。该基底夹持装置具有:顶圈体,其用于夹持基底并将基底压在抛光表面上;以及挡圈,其用于压住所述抛光表面,所述挡圈布置在所述顶圈体的外圆周部分上;所述挡圈包括:由磁性材料制成的第一构件;以及在表面上布置有磁铁的第二构件,其与所述第一构件保持抵接。
申请公布号 CN101045286B 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN200710089026.8 申请日期 2007.03.29
申请人 株式会社荏原制作所 发明人 安田穗积;户川哲二;锅谷治;斋藤贤一郎;福岛诚;井上智视
分类号 B24B29/02(2006.01)I 主分类号 B24B29/02(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 刘兴鹏;邵伟
主权项 一种基底夹持装置,其包括可旋转顶圈体,其用于夹持基底并将基底压在抛光表面上;以及挡圈,其用于压住所述抛光表面,所述挡圈布置在所述顶圈体的外圆周部分上;所述挡圈包括:‑由磁性材料制成的第一构件;以及‑在表面上布置有磁铁的第二构件,其与所述第一构件保持抵接,其中所述第一构件和所述第二构件通过作用于其间的磁力彼此固定,并且所述第一构件和所述第二构件被构造成与所述顶圈体一起旋转。
地址 日本东京