发明名称 |
基底夹持装置、抛光装置及抛光方法 |
摘要 |
一种基底夹持装置防止基底滑出并使得基底被稳定地抛光。该基底夹持装置具有:顶圈体,其用于夹持基底并将基底压在抛光表面上;以及挡圈,其用于压住所述抛光表面,所述挡圈布置在所述顶圈体的外圆周部分上;所述挡圈包括:由磁性材料制成的第一构件;以及在表面上布置有磁铁的第二构件,其与所述第一构件保持抵接。 |
申请公布号 |
CN101045286B |
申请公布日期 |
2015.11.25 |
申请号 |
CN200710089026.8 |
申请日期 |
2007.03.29 |
申请人 |
株式会社荏原制作所 |
发明人 |
安田穗积;户川哲二;锅谷治;斋藤贤一郎;福岛诚;井上智视 |
分类号 |
B24B29/02(2006.01)I |
主分类号 |
B24B29/02(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
刘兴鹏;邵伟 |
主权项 |
一种基底夹持装置,其包括可旋转顶圈体,其用于夹持基底并将基底压在抛光表面上;以及挡圈,其用于压住所述抛光表面,所述挡圈布置在所述顶圈体的外圆周部分上;所述挡圈包括:‑由磁性材料制成的第一构件;以及‑在表面上布置有磁铁的第二构件,其与所述第一构件保持抵接,其中所述第一构件和所述第二构件通过作用于其间的磁力彼此固定,并且所述第一构件和所述第二构件被构造成与所述顶圈体一起旋转。 |
地址 |
日本东京 |