涂布设备和方法

摘要

本发明涉及提供可用于将材料溅射沉积在至少一个物品上并在物品上形成涂层的设备和方法。这里描述的新型磁控管可以在较高的功率下实现溅射沉积速率的增大且不引起涂层的破坏。这可通过在磁控管中改善冷却并使用相对高的磁场，同时通过使电流的增大速率快于电压的增大速率以增大磁控管的功率来实现。

主权项

物品，所述物品具有涂布至其表面的至少一部分的涂层，所述涂层导电且耐腐蚀，且涂层材料包含涂布于所述物品的表面的包括过渡金属的层和涂布于所述物品的表面的基本上基于碳的材料，所述基本上基于碳的材料具有石墨微晶结构，所述物品是导电的，并且使用设备涂布所述涂层从而使所述物品和涂层在被置于腐蚀性介质中时仍然导电，所述涂层保护所述物品不受腐蚀性介质侵蚀，所述设备包括室，在所述室中，所述物品以电偏压固定在载体上，并且所述设备包括至少一个磁控管，所述磁控管具有溅射沉积在所述物品上的材料的靶，并且为所述至少一个磁控管提供电源以引起材料从其溅射沉积，其中在溅射涂布所述材料以在所述物品上形成涂层的过程中，供电水平增大，并且在溅射涂布的过程中，至少存在供电的电流的增大速率大于供电的电压的增大速率的阶段，其中所述阶段在磁控管运行初期的初始阶段之后发生，在所述初始阶段期间，供电的电压水平和电流水平都增大，然后在所述阶段期间，在电流水平增大时，电压水平基本恒定。