| 发明名称 | 气相外延装置 | ||
| 摘要 | 一种气相外延装置，包括：底板、上盖板、位于底板和上盖板之间的侧壁和位于底板上的基板，所述底板、上盖板、侧壁和基板构成反应腔室，还包括：位于侧壁下端等夹角分布的至少4个的排气口，用于排出反应腔室内的气体；位于上盖板上与基板相对设置的加热装置，所述加热装置上分布有若干加热灯管。本发明实施例的气相外延装置提高外延层的均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN103132138B | 申请公布日期 | 2015.11.25 |
| 申请号 | CN201110382874.4 | 申请日期 | 2011.11.25 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 涂火金 |
| 分类号 | C30B25/02(2006.01)I;C30B25/14(2006.01)I;C30B25/10(2006.01)I | 主分类号 | C30B25/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 骆苏华 |
| 主权项 | 一种气相外延装置，包括：底板、上盖板、位于底板和上盖板之间的侧壁和位于底板上的基板，所述底板、上盖板、侧壁和基板构成反应腔室，其特征在于，还包括：位于侧壁下端等夹角分布的至少4个的排气口，用于排出反应腔室内的气体；位于上盖板上与基板相对设置的加热装置，所述加热装置上分布有若干加热灯管。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||