发明名称 |
具电阻性元件的非易失性存储器与其制作方法 |
摘要 |
一种非易失性存储器,包括:一基板;一鳍状结构,凸出于该基板,且该鳍状结构中具有一第一源/漏极区域与一第二源/漏极区域;一栅极结构,覆盖于该鳍状结构的上方以及二侧表面,且该栅极结构位于该第一源/漏极区域与该第二源/漏极区域之间;一过渡层,接触于该第二源/漏极区域;以及一金属层,接触于该过渡层。 |
申请公布号 |
CN105097864A |
申请公布日期 |
2015.11.25 |
申请号 |
CN201410250984.9 |
申请日期 |
2014.06.06 |
申请人 |
林崇荣 |
发明人 |
林崇荣 |
分类号 |
H01L27/24(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/24(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
王芝艳;邹宗亮 |
主权项 |
一种非易失性存储器,包括:一基板;一鳍状结构,凸出于该基板,且该鳍状结构中具有一第一源/漏极区域与一第二源/漏极区域;一栅极结构,覆盖于该鳍状结构的上方以及二侧表面,且该栅极结构位于该第一源/漏极区域与该第二源/漏极区域之间;一过渡层,接触于该第二源/漏极区域;以及一金属层,接触于该过渡层;其中,该过渡层可以被设定或重置,用以改变该过渡层的电阻值。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |