一种防止曝光系统中半影入射光掩模的方法及结构

摘要

本发明提供一种防止曝光系统中半影入射光掩模的方法及结构，所述防止曝光系统中半影入射光掩模的方法至少包括步骤：提供一下表面具有掩模图案的光掩模，在所述光掩模的上表面边缘设置第一遮光层，以阻挡面光源在光掩模上形成的半影。本发明的方法通过在光掩模的上表面边缘设置第一遮光层，确保将面光源形成的半影阻挡在光掩模表面之上，一方面可以避免半影入射光掩模引起杂散光而使光掩模发热，另一方面可以避免半影曝光到晶圆上，影响晶圆曝光质量。

主权项

一种防止曝光系统中半影入射光掩模的方法，其特征在于，所述防止曝光系统中半影入射光掩模的方法至少包括：提供一下表面具有掩模图案的光掩模，在所述光掩模的上表面边缘设置第一遮光层，以阻挡面光源在光掩模上形成的半影。