发明名称 SOI器件新结构
摘要 本文公开了一种提高SOI器件击穿电压的器件新结构,其中主要包括埋层结构,埋氧层在源端和漏端成U型。利用U型埋氧层在大的漏端电压时正电荷不易被抽走提高击穿电压;源端U型介质埋氧层在漏端电压较大时保证击穿不会发生在p阱和漂移区形成的耗尽区,漏端U型介质埋层通过积累大量正电荷来提高击穿电压。
申请公布号 CN105097928A 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201410216651.4 申请日期 2014.05.22
申请人 上海北京大学微电子研究院 发明人 徐帆;牟志强;蒋乐乐
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种SOI高压器件新结构,包括漂移区,埋氧层,衬底,其特征是影响击穿电压主要因素是漏端纵向击穿电压,并且埋氧层结构可以提SOI器件的击穿电压。
地址 201203 上海市浦东新区盛夏路608号