发明名称 |
SOI器件新结构 |
摘要 |
本文公开了一种提高SOI器件击穿电压的器件新结构,其中主要包括埋层结构,埋氧层在源端和漏端成U型。利用U型埋氧层在大的漏端电压时正电荷不易被抽走提高击穿电压;源端U型介质埋氧层在漏端电压较大时保证击穿不会发生在p阱和漂移区形成的耗尽区,漏端U型介质埋层通过积累大量正电荷来提高击穿电压。 |
申请公布号 |
CN105097928A |
申请公布日期 |
2015.11.25 |
申请号 |
CN201410216651.4 |
申请日期 |
2014.05.22 |
申请人 |
上海北京大学微电子研究院 |
发明人 |
徐帆;牟志强;蒋乐乐 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种SOI高压器件新结构,包括漂移区,埋氧层,衬底,其特征是影响击穿电压主要因素是漏端纵向击穿电压,并且埋氧层结构可以提SOI器件的击穿电压。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区盛夏路608号 |