一种基于多曝光程序的多硅片循环运动方法

摘要

本发明公开了一种基于多曝光程序的多硅片循环运动方法，包括以下步骤：首先将硅片盒内的单枚硅片传送至硅片载片台；接着对传送至硅片载片台上的硅片进行预设轮数的循环曝光；然后将循环曝光后的硅片传回至硅片盒；最后对硅片盒内的下一枚硅片进行预设轮数的循环曝光，直至硅片盒内的硅片全部完成循环曝光。本发明通过改变硅片的循环曝光顺序，减少了硅片传送占用机台的时间，同时具有更好的带走超纯水中微粒的效果，使超纯水中的微粒聚集在单枚硅片上至饱和状态，使超纯水中的微粒越来越少；同时，通过减少硅片的曝光面积，可以减少各曝光影像所产生的平坦度结果文件的大小，解决了由于平坦度结果文件过大而导致机台宕机的问题。

主权项

一种基于多曝光程序的多硅片循环运动方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S01、将硅片盒内的单枚硅片传送至硅片载片台；步骤S02、对传送至硅片载片台上的硅片进行预设轮数的循环曝光，其中，循环曝光的轮数至少为2轮，且循环曝光的轮数与曝光程序中的曝光影像的数量相等；步骤S03、将循环曝光后的硅片传回至硅片盒；步骤S04、将硅片盒内的下一枚硅片传送至硅片载片台，并对其进行预设轮数的循环曝光，然后将循环曝光后的硅片传回至硅片盒，如此重复，直至硅片盒内的硅片全部完成循环曝光。