| 发明名称 |
METHOD OF AND APPARATUS FOR SUPPLY AND RECOVERY OF TARGET MATERIAL |
| 摘要 |
타겟 재료 저장소를 갖는 액적 생성기를 포함할 수 있는 EUV 광원 타겟 재료 핸들링 시스템이 개시되고, 타겟 저장소에는 액적 생성기의 노즐 부분이 소정 온도로 유지되는 동안 타겟 재료가 보충될 수 있다. 사용 타겟 재료를 선택적으로 배출하기 위한 시스템 또한 개시된다. |
| 申请公布号 |
KR20150132084(A) |
申请公布日期 |
2015.11.25 |
| 申请号 |
KR20157016988 |
申请日期 |
2014.02.18 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
VASCHENKO GEORGIY O.;BAUMGART PETER M.;GACUTAN JEFFREY;ALGOTS J. MARTIN;SYRPIS THEODOSIOS;RAJYAGURU CHIRAG;SESHAGIRI SANJEEV |
| 分类号 |
H05G2/00 |
主分类号 |
H05G2/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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