发明名称 一种极远紫外探测器校准装置
摘要 本发明提供了一种极远紫外探测器校准装置,包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中,汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜,其包括摆镜和旋转位移平台,摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜,其反射镜中心轴线重合,其中一块反射镜的反射面A镀30nm~200nm反射膜,另一块反射镜的反射面B镀60nm~200nm反射膜。探测器单元包括标准探测器和待测探测器。利用本发明可以实现在30nm~200nm范围内探测器相对光谱响应度校准。本发明提供的整个装置体积小巧,接口丰富,在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计,提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。
申请公布号 CN102998089B 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201210478716.3 申请日期 2012.11.23
申请人 北京振兴计量测试研究所 发明人 王加朋;孙红胜;宋春晖;张玉国;李世伟;张虎;任小婉
分类号 G01M11/00(2006.01)I;G01J3/10(2006.01)I 主分类号 G01M11/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种极远紫外探测器校准装置,其特征在于包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元和探测器单元;所述汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜(4),其位于汇聚摆镜真空仓(3)内,所述汇聚摆镜(4)包括摆镜和旋转位移平台,所述摆镜包括两块非反射面贴合的凹面反射镜,其凹面反射镜中心轴线重合,所述两块凹面反射镜曲面半径范围为50mm~5000mm,其中一块凹面反射镜的反射面A镀30nm~200nm反射膜,另一 块凹面反射镜的反射面B镀60nm~200nm反射膜;所述摆镜的口径范围为10mm~500mm,半径范围为50mm~5000mm;所述摆镜的两个凹面反射镜反射面中心间距范围为1mm~200mm;所述摆镜通过旋转位移平台进行旋转运动;两个凹面反射面的反射膜为高反膜;所述探测器单元包括一电动旋转平台(12),其上有若干个均匀分布的工位,标准探测器(9)和待测探测器(10)放置于工位上;所述光源发射出的光线射入所述汇聚摆镜真空仓(3),经所述汇聚摆镜(4)反射后射入所述紫外单色仪单元,经所述紫外单色仪单元色散分光后被所述探测器单元接收。
地址 100074 北京市7200信箱21分箱
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