新的二嵌段共聚物、其制备方法以及使用其形成纳米图案的方法

摘要

本发明涉及一种二嵌段共聚物、制备该共聚物的方法以及使用该共聚物形成纳米图案的方法，所述二嵌段共聚物可以有助于形成更精细的纳米图案，并可以用于制造包括纳米图案的电子器件或生物传感器等。该二嵌段共聚物包含：刚性链段，其包含至少一个特定的基于丙烯酰胺的重复单元；以及柔性链段，其包含至少一个(甲基)丙烯酸酯类重复单元。

主权项

一种形成纳米图案的方法，包括：将一种二嵌段共聚物的溶液涂布在衬底上，在该衬底上形成有待形成图案的膜，由此形成薄膜；和对所涂布的薄膜进行溶剂退火，或分别在所述二嵌段共聚物的刚性链段的熔点和所述二嵌段共聚物的柔性链段的玻璃化转变温度下对所涂布的薄膜进行热处理，从而在衬底上形成聚合物薄膜；向该聚合物薄膜照射UV，去除所述柔性链段；和使用去除了柔性链段的聚合物薄膜作为掩模，对待形成图案的膜进行反应离子蚀刻，其中，所述二嵌段共聚物包含：刚性链段，其包含至少一个下面化学式1的重复单元，和柔性链段，其包含至少一个下面化学式2的(甲基)丙烯酸酯类重复单元：[化学式1][化学式2]在以上化学式1中，n为5至600的整数，R为氢或甲基，R′为X、X为‑Z‑R″，Y为C1‑10的亚烷基，Z为C6‑20的亚芳基，R″为C10‑20的直链或支链的烃或C10‑20的直链或支链的全氟代烃，且在以上化学式2中，m为30至1000的整数，R₁为氢或甲基，R₂为C1‑20的烷基。