一种干法刻蚀机台及其使用方法

摘要

本发明公开了一种干法刻蚀机台及其使用方法，属于显示技术领域，可改善干法刻蚀过程中，基板的表面温度均匀性不理想的技术问题。该干法刻蚀机台包括用于对基板进行干法刻蚀的密封的工艺腔，工艺腔内设置有位于腔顶的上部电极、与上部电极相对位于腔底的下部电极、多个温度传感器和冷却控制器，多个温度传感器设置于下部电极的上表面，冷却控制器包括多个气体喷嘴和处理器，每一温度传感器旁设置有一个气体喷嘴；下部电极上放置有基板时，温度传感器接触基板的下表面，用于检测自身所在位置的基板的温度，并将检测到的基板的温度值传输给冷却控制器；冷却控制器的处理器用于根据同一时刻各温度传感器检测到的温度值，控制各气体喷嘴的气体流量。

主权项

一种干法刻蚀机台，其特征在于，包括用于对基板进行干法刻蚀的密封的工艺腔，所述工艺腔内设置有位于腔顶的上部电极、与所述上部电极相对位于腔底的下部电极、多个温度传感器和冷却控制器，多个温度传感器设置于所述下部电极的上表面，冷却控制器包括多个气体喷嘴和处理器，每一温度传感器旁设置有一个气体喷嘴；所述下部电极上放置有基板时，温度传感器接触基板的下表面，用于检测自身所在位置的基板的温度，并将检测到的基板的温度值传输给冷却控制器；冷却控制器的处理器用于根据同一时刻各温度传感器检测到的温度值，控制各气体喷嘴的气体流量。