发明名称 通过内部气相沉积工艺制造光学预制件的方法和装置及基管组件
摘要 本发明涉及通过内部气相沉积工艺制造光学预制件的方法和装置及基管组件。用于通过内部气相沉积工艺来制造光学预制件的该装置包括能量源和中空基管,该中空基管具有供给侧和排出侧,该能量源能够沿着中空基管的长度移动,该装置还包括连接至中空基管的排出侧的延长管,中空基管延伸至延长管的内部,以及延长管的内径比中空基管的外径大了至少0.5毫米。
申请公布号 CN105084714A 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201510268260.1 申请日期 2015.05.22
申请人 德拉克通信科技公司 发明人 I·米莉瑟维克;J·A·哈特苏克;M·J·N·范·斯特劳伦;G·克拉比希斯;E·A·库伊佩斯
分类号 C03B8/04(2006.01)I 主分类号 C03B8/04(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种用于通过内部气相沉积工艺来制造光学预制件的装置,所述装置包括能量源和中空基管,所述中空基管具有供给侧和排出侧,所述能量源能够沿着所述中空基管的长度移动,所述装置还包括以大致气密的方式连接至所述中空基管的所述排出侧的延长管,其特征在于,所述中空基管延伸至所述延长管的内部,由此定义所述中空基管和所述延长管之间的重叠区域,以及所述延长管在所述重叠区域处的内径比所述中空基管在所述重叠区域处的外径大了至少0.5毫米。
地址 荷兰阿姆斯特丹