发明名称 一种提高磁控溅射靶材利用率的结构
摘要 本实用新型公开了一种提高磁控溅射靶材利用率的结构,包括伺服电机、丝杠、磁铁板、丝杠螺母、磁铁组和靶材,所述靶材的背面设置磁铁组,磁铁组固连在磁铁板上,从而构成磁控溅射靶材结构,所述磁铁板的背面固连丝杠螺母,丝杠螺母连接丝杠,丝杠的一端连接伺服电机。本实用主要是通过将磁铁板的宽度变窄,同时配有伺服电机与丝杠,通过伺服电机的正反转及适当的转速控制,使得磁铁板带着磁铁组在靶材宽度范围内,进行左右移动。通过周期性的左右运动叠加,最终达到最大的靶材刻蚀效果,通过测试,靶材利用率可提高1倍以上。
申请公布号 CN204803398U 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201520489264.8 申请日期 2015.07.09
申请人 深圳新南亚技术开发有限公司 发明人 闫都伦;王克斌;吴细标;唐贵民
分类号 C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种提高磁控溅射靶材利用率的结构,包括伺服电机、丝杠、磁铁板、丝杠螺母、磁铁组和靶材,所述靶材的背面设置磁铁组,磁铁组固连在磁铁板上,从而构成磁控溅射靶材结构,其特征在于,所述磁铁板的背面固连丝杠螺母,丝杠螺母连接丝杠,丝杠的一端连接伺服电机。
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