发明名称 |
传感器叠层结构 |
摘要 |
本申请公开了传感器叠层结构。诸如磁存储设备的读取器叠层,该叠层包括顶部合成反铁磁(SAF)层、毗邻于顶部SAF层的磁覆盖层、毗邻于磁覆盖层并与顶部SAF层相对的RKKY耦合层以及毗邻于RKKY耦合层并与磁覆盖层相对的自由层。还包括一种方法,该方法通过使用位于自由层和顶部合成反铁磁(SAF)层之间的具有RKKY耦合特性的层和在SAF层和具有RKKY耦合特性的层之间的磁覆盖层提供自由层和顶SAF层之间的交换耦合,而使读取器叠层内的自由层偏置。 |
申请公布号 |
CN105096967A |
申请公布日期 |
2015.11.25 |
申请号 |
CN201510203637.5 |
申请日期 |
2015.04.24 |
申请人 |
希捷科技有限公司 |
发明人 |
E·W·辛格尔顿;谭利文;李宰荣;K·尼古拉维;Z·葛 |
分类号 |
G11B5/127(2006.01)I;G11B5/11(2006.01)I |
主分类号 |
G11B5/127(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
何焜 |
主权项 |
一种方法,包括:通过以下方式使读取器叠层内的自由层偏置:使用位于所述自由层与顶部合成反铁磁(SAF)层之间的具有RKKY耦合特性的层和在所述顶部SAF层与所述具有RKKY耦合特性的层之间的磁覆盖层,来提供所述自由层和所述顶部SAF层之间的交换耦合。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |