发明名称 |
气体处理系统及化学气相沉积设备 |
摘要 |
本发明提供一种气体处理系统及化学气相沉积设备,属于微电子技术领域,其可解决现有的气体处理系统的能源浪费的问题。本发明的气体处理系统,其包括:用于从反应腔室中抽取气体的抽气装置、用于对从反应腔室中抽取的气体进行处理的气体处理装置,所述气体处理系统还包括:气体监测装置,所述反应腔室与抽气装置,抽气装置与气体处理装置均通过第一管道连接;所述气体监测装置与第一管道气路连接,用于将气体电离,并俘获电离产生的离子而产生电流;所述气体监测装置与气体处理装置电连接,用于控制气体处理装置工作。本发明的气体处理系统可用于化学气相沉积设备,干法刻蚀工艺设备等基板处理工艺的设备中。 |
申请公布号 |
CN103590018B |
申请公布日期 |
2015.11.25 |
申请号 |
CN201310508648.5 |
申请日期 |
2013.10.24 |
申请人 |
合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
陈甫;刘祖宏;刘建辉;李婷婷;丁欣;张亮;侯智;吴代吾 |
分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/44(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
柴亮;张天舒 |
主权项 |
一种气体处理系统,其包括:用于从反应腔室中抽取气体的抽气装置、用于对从反应腔室中抽取的气体进行处理的气体处理装置,其特征在于,所述气体处理系统还包括:气体监测装置,其中,所述反应腔室、抽气装置、气体处理装置间通过第一管道连接;所述气体监测装置与第一管道气路连接,用于将气体电离,并俘获电离产生的离子而产生电流;所述气体监测装置与气体处理装置电连接,用于控制气体处理装置工作。 |
地址 |
230011 安徽省合肥市铜陵北路2177号 |