发明名称 微分相位对比成像
摘要 本发明涉及微分相位对比成像,尤其是用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅,例如分析器光栅和相位光栅的结构。为了提供增强的基于相位梯度的图像数据,为用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅(14,15)提供第一子区域(23),其包括第一光栅结构(26)的至少一个部分(24)和第二光栅结构(30)的至少一个部分(28)。所述第一光栅结构包括周期性布置的具有第一光栅取向G<sub>O1</sub>(37)的多个条(34)和间隙(36);其中布置所述条使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度,且其中所述间隙能透过X射线。第二光栅结构包括周期性布置的具有第二光栅取向G<sub>O2</sub>(44)的多个条(40)和间隙(42),其中布置条,使得它们改变X射线的相位和/或幅度,且其中间隙能透过X射线。所述第一光栅取向G<sub>O1</sub>与所述第二光栅取向G<sub>O2</sub>不同。于是,可以针对不同方向采集基于相位梯度的图像信息,无需在例如采集步骤之间旋转或绕枢轴转动任何相应的光栅。
申请公布号 CN103168228B 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201180050514.2 申请日期 2011.10.17
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 E·勒斯尔
分类号 G01N23/04(2006.01)I;G01N23/20(2006.01)I;G21K1/06(2006.01)I;A61B6/06(2006.01)I 主分类号 G01N23/04(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 王英;刘炳胜
主权项 一种用于X射线微分相位对比成像的衍射光栅(14,15),包括第一子区域(23),所述第一子区域具有:‑第一光栅结构(26)的至少一个部分(24);以及‑第二光栅结构(30)的至少一个部分(28);其中,所述第一光栅结构包括周期性布置的具有第一光栅取向G<sub>O1</sub>(37)的多个条(34)和间隙(36);其中,布置所述条使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度,并且其中,所述间隙能透过X射线;其中,所述第二光栅结构包括周期性布置的具有第二光栅取向G<sub>O2</sub>(44)的多个条(40)和间隙(42);其中,布置所述条使得它们改变X射线辐射的相位和/或幅度,并且其中,所述间隙能透过X射线;并且其中,所述第一光栅取向G<sub>O1</sub>与所述第二光栅取向G<sub>O2</sub>不同。
地址 荷兰艾恩德霍芬