发明名称 脱模膜
摘要 本发明提供一种廉价的脱模膜,在将无基材两面粘接片应用于光学用途、例如触摸面板、液晶偏光板、相位差板等中时,能够将剥离速度依赖性抑制在最小限度,解决生产率、成本等的问题,并且防止低聚物、赋予检查性,从而减少工序污染以及粘接剂上的异物。该脱模膜包括具备脱模层的聚酯膜,将脱模层粘贴在无基材两面粘接片的粘接层上使用,脱模层为有机硅系脱模层,所述脱模层含有:具有烯基作为官能团的有机硅树脂(a)、具有烷基的有机硅树脂(b)、向粘接层转移的转移成分(c)和铂系催化剂(d),所述脱模层中转移成分(c)的含量为5~20重量%,脱模层在300mm/分钟速度时的低速剥离力为10~20mN/cm的范围,并且在10000mm/分钟速度时的高速剥离力为低速剥离力的2.5倍以下。
申请公布号 CN103229080B 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201180057701.3 申请日期 2011.12.19
申请人 三菱树脂株式会社 发明人 斋藤智久;有马奈美
分类号 G02B5/30(2006.01)I;B32B27/00(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种脱模膜,其特征在于:该脱模膜包括具备脱模层的聚酯膜,将脱模层粘贴在无基材两面粘接片的粘接层上使用,脱模层为有机硅系脱模层,所述脱模层含有:具有烯基作为官能团的有机硅树脂(a)、具有烷基的有机硅树脂(b)、向粘接层转移的转移成分(c)和铂系催化剂(d),转移成分(c)的含量为5~20重量%,脱模层在300mm/分钟速度时的低速剥离力为10~20mN/cm的范围,并且在10000mm/分钟速度时的高速剥离力为低速剥离力的2.5倍以下,形成所述脱模层时的涂布量为0.01~1g/m<sup>2</sup>的范围,所述剥离力是指通过在脱模层面粘贴日东电工生产的型号为No.31B的两面粘接胶带,在室温放置1小时后,以与基材膜的剥离角度为180°、任意的拉伸速度将胶带剥离时,由拉伸试验机测得的值。
地址 日本东京都