发明名称 |
外延生长装置 |
摘要 |
本发明提供一种能使生长速度提高的外延生长装置。外延生长装置包括:反应室,由载置基板的基板载置部、具有透光性的顶板及侧壁部而划分;加热单元,设置于反应室外部,且将载置于反应室内的基板经由所述顶板来进行加热;以及反应气体导入单元,与基板的水平方向相平行地向反应室内导入反应气体;并且顶板的中心与所述基板载置部的距离小于10mm。 |
申请公布号 |
CN105103276A |
申请公布日期 |
2015.11.25 |
申请号 |
CN201380054803.9 |
申请日期 |
2013.10.28 |
申请人 |
应用材料公司 |
发明人 |
冈部晃;森义信 |
分类号 |
H01L21/31(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/31(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国;赵静 |
主权项 |
一种外延生长装置,其特征在于,包括:反应室,由载置基板的基板载置部、具有透光性的顶板及侧壁部而划分;加热单元,设置于所述反应室外部,且经由所述顶板对载置于所述反应室内的基板进行加热;以及反应气体导入单元,与基板的水平方向平行地向所述反应室内导入反应气体;并且所述外延生长装置构成为所述顶板的中心与载置于所述基板载置部的基板的距离小于10mm。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |