一种曝光设备

摘要

本发明公开一种曝光设备，其包括：光照射系统(10)，用于照射出光线；光优化系统(20)，用于接收光线，并对光线进行光线均匀化；光会聚系统(30)，用于接收经光线均匀化后的光线，并对经光线均匀化后的光线进行会聚；微位移调整系统(40)，用于对光会聚系统(30)的边缘区域进行微位移调整，从而对处于光会聚系统(30)的边缘区域的光线进行光路调整；光反射系统(50)，用于接收经会聚后的光线，并将经会聚后的光线反射至曝光面(60)。本发明的曝光设备，利用在聚光镜的各角落处和各边中心位置处设置的压电陶瓷微位移驱动器对聚光镜的角落及边缘进行微位移调整，使处于聚光镜的边缘区域的光线的光路被调节，优化了照射到光罩上的部分光路。

主权项

一种曝光设备，其特征在于，包括：光照射系统(10)，用于照射出光线；光优化系统(20)，用于接收所述光线，并对所述光线进行光线均匀化；光会聚系统(30)，用于接收经光线均匀化后的光线，并对经光线均匀化后的光线进行会聚；微位移调整系统(40)，用于对所述光会聚系统(30)的边缘区域进行微位移调整，从而对处于所述光会聚系统(30)的边缘区域的光线进行光路调整；光反射系统(50)，用于接收经会聚后的光线，并将经会聚后的光线反射至曝光面(60)。