发明名称 |
一种TEM样品制备方法 |
摘要 |
本发明提供的TEM样品制备方法,将样品处理成至少有三个表面与样品内部的目标块的距离为1μm~5μm,表面中至少有一对相互平行的表面,任选一对相互平行的表面,分别为第一表面和第二表面,将聚焦离子束以与第一表面相交的方向入射轰击第一表面和第二表面,使得第一表面和第二表面上有横截面为平行四边形的凹陷出现,并在凹陷的底部有目标块露出。这种方法在接近目标块时改变聚焦离子束的发射角度,不论聚焦离子束的以垂直于第一表面还是与第一表面形成锐角的方向入射,都能使得目标块周围的样品部分保留,只减少目标块所在的样品部分的厚度,提高了目标块附近样品的厚度,减少了样品卷曲或者破裂的问题,提高了制样的成功率。 |
申请公布号 |
CN105092330A |
申请公布日期 |
2015.11.25 |
申请号 |
CN201510493945.6 |
申请日期 |
2015.08.12 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
陈强 |
分类号 |
G01N1/28(2006.01)I |
主分类号 |
G01N1/28(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
智云 |
主权项 |
一种TEM样品制备方法,其特征在于,将样品处理成至少有三个表面与所述样品内部的目标块的距离为1μm~5μm,所述表面中至少有一对相互平行的表面,任选一对所述相互平行的表面,分别为第一表面和第二表面,将聚焦离子束以与所述第一表面相交的方向入射轰击所述第一表面和所述第二表面,使得所述第一表面和所述第二表面上有横截面为平行四边形的凹陷出现,并在所述凹陷的底部有所述目标块露出。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江开发区高斯路568号 |