保护膜形成用化学溶液以及晶片表面的清洗方法

摘要

本发明公开了拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其是用于在金属系晶片的至少凹部表面形成拒水性保护膜的化学溶液，该化学溶液含有基于Griffin法的HLB值为0.001~10且具有包含碳原子数为6~18的烃基的疏水部的表面活性剂、以及水，化学溶液中前述表面活性剂的浓度相对于该化学溶液的总量100质量%为0.00001质量%以上且饱和浓度以下。该化学溶液能够改善容易诱发金属系晶片的图案倾塌的清洗工序。

主权项

一种拒水性保护膜形成用化学溶液，其特征在于，其是用于在表面具有凹凸图案且该凹凸图案的凹部表面具有选自由钛、钨、铝、铜、锡、钽和钌组成的组中的至少1种元素的晶片的至少凹部表面形成拒水性保护膜的化学溶液，该化学溶液含有基于格里菲法的亲水亲油平衡值为0.001～10且具有包含碳原子数为6～18的烃基的疏水部的表面活性剂、以及水，化学溶液中所述表面活性剂的浓度相对于该化学溶液的总量100质量％为0.00001质量％以上且饱和浓度以下。