发明名称 一种冗余图形填充方法
摘要 本发明公开了一种冗余图形填充方法,通过将版图划分为空旷区域和非空旷区域,针对空旷区域采用传统的填充方法进行填充,而针对非空旷区域,首先将非空旷区域的空白区域各边向内缩小一定距离,得到和空白区域形状相同的图形,将不符合尺寸要求的图形予以滤除,并将剩余的图形进行填充。本发明将版图划分为空旷区域和非空旷区域,并根据区域的不同采取不同的填充方法,提高了冗余图形填充率和整个版图图形密度的均一性,最终提高硅片在化学机械研磨的均一性,进而提升生产工艺。
申请公布号 CN103441096B 申请公布日期 2015.11.25
申请号 CN201310337015.2 申请日期 2013.08.02
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 阚欢;张旭昇;魏芳
分类号 H01L21/768(2006.01)I 主分类号 H01L21/768(2006.01)I
代理机构 上海申新律师事务所 31272 代理人 竺路玲
主权项 一种冗余图形填充方法,其特征在于,所述方法包括:提供一需要图形填充的版图,且该版图上包括主图形、空旷区域和非空旷区域,且该非空旷区域包含有多块空白区域;采用一种或多种多边形的冗余图形对所述空旷区域进行填充;将非空旷区域中的每个空白区域各边向内缩小尺寸a,得到冗余图形;若缩小得到的冗余图形的最小尺寸b小于主图形计规则中规定的最小冗余图形尺寸,则予以滤除,不进行处理;若缩小得到的冗余图形的最小尺寸b大于或等于主图形规则中规定的最小冗余图形尺寸,则符合条件并对所述非空旷区域进行冗余图形填充;其中,根据工艺需求设定一标准距离值d,所述版图中与所述主图形之间的距离值大于所述标准距离值d的区域为空旷区域,所述版图中与所述主图形之间的距离小于或等于所述标准距离值d的区域为非空旷区域。
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