用于晶片湿法处理的密闭室

摘要

一种用于单晶片湿法处理的密闭室处理模块的改进设计使用用于从上面密封该室的组合盖子和气体喷头。一或多个媒质臂将液体分配到该室中的晶片上。该媒质臂被安装在该室内部但通过穿过室壁的联动装置被连接到安装在该室外部的驱动单元。

主权项

一种用于处理晶片状物件的装置，其包括密闭处理室、位于所述密闭处理室内的卡盘、设置在所述室内的至少一个工艺液体分配设备、以及用于所述至少一个工艺液体分配设备的驱动单元，所述驱动单元被传动地连接到所述至少一个工艺液体分配设备以将所述至少一个工艺液体分配设备从外围待命位置移动到一或多个作用位置，所述至少一个工艺液体分配设备的分配端在所述一或多个作用位置相对于所述卡盘被径向向内移动，所述驱动单元被安装在所述室的外面，其中所述驱动单元是安装在所述室的侧面壳体上的马达，所述马达的输出轴通到所述侧面壳体中并驱动通到所述室中且连接到所述至少一个工艺液体分配设备的连杆，以及其中所述卡盘能相对于所述密闭处理室竖直移动，且被配置为具有至少三个停止位置，所述停止位置是用于在所述卡盘加载和卸载晶片状物件的最上面位置以及在所述室内的至少两个较下面位置，所述至少两个较下面位置中的每一个对应于所述室的不同工艺位准。