| 发明名称 | 氧化硅玻璃坩埚 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够抑制杂质混入硅熔液，可以抑制氧化硅玻璃坩埚的压曲和沉入的氧化硅玻璃坩埚。根据本发明，提供一种用于提拉单晶硅的氧化硅玻璃坩埚，其中，从上述坩埚壁的外表面朝向内表面的厚度为2mm的区域的氧化硅玻璃，其在拉曼光谱中492cm<sup>-1</sup>处的峰值的面积强度I1和606cm<sup>-1</sup>处的峰值的面积强度I2之比I2/I1为0.67～1.17。 | ||
| 申请公布号 | CN102485973B | 申请公布日期 | 2015.11.25 |
| 申请号 | CN201110412184.9 | 申请日期 | 2011.11.30 |
| 申请人 | 日本超精石英株式会社 | 发明人 | 须藤俊明;岸弘史;铃木江梨子 |
| 分类号 | C30B15/10(2006.01)I | 主分类号 | C30B15/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 孟锐 |
| 主权项 | 一种用于提拉单晶硅的氧化硅玻璃坩埚，其特征在于：从所述坩埚壁的外表面向内表面的厚度为2mm的区域的氧化硅玻璃，其使用拉曼光谱法测定属于平面四元环结构的波长492cm<sup>‑1</sup>处的峰值的面积强度I1和属于平面三元环结构的波长606cm<sup>‑1</sup>处的峰值的面积强度I2之比I2/I1为0.67～1.17，所述区域的氧化硅玻璃中，矿化元素的含有量为20ppm以下。 | ||
| 地址 | 日本国秋田县秋田市茨岛5丁目14番3号 | ||