图案剥离方法、电子元件及其制造方法

摘要

本发明的课题在于提供剥离性优异、且对基板的损伤少的图案剥离方法、包含所述图案剥离方法的电子元件的制造方法、及利用所述制造方法而制造的电子元件。本发明包括：抗蚀剂膜形成步骤，在基板上涂布感光化射线性或感放射线性树脂组合物，而形成抗蚀剂膜；曝光步骤，对所述抗蚀剂膜进行曝光；显影步骤，使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的所述抗蚀剂膜进行显影，而形成负型图案；及剥离步骤，使用下述A或B的液体将所述负型图案剥离。A：含有亚砜化合物和/或酰胺化合物的液体B：含有硫酸与过氧化氢的液体。

主权项

一种图案剥离方法，包括：抗蚀剂膜形成步骤，在基板上涂布感光化射线性或感放射线性树脂组合物，而形成抗蚀剂膜；曝光步骤，对所述抗蚀剂膜进行曝光；显影步骤，使用含有有机溶剂的显影液对经曝光的所述抗蚀剂膜进行显影，而形成负型图案；及剥离步骤，使用下述A或B的液体将所述负型图案剥离：A：含有亚砜化合物和/或酰胺化合物的液体、B：含有硫酸与过氧化氢的液体。